姓 名: | 魏莹 |
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性 别: | 女 |
职 务: | |
职 称: | 副研究员 |
通讯地址: | 乌鲁木齐市北京南路40号附1号 |
邮政编码: | 830011 |
电子邮件: | weiying@ms.xjb.ac.cn |
简历:
2020年10月-至今:中国科学院新疆理化技术研究所 固体辐射物理研究室 副研究员 硕士生导师
2012年7月-2020年10月:中国科学院新疆理化技术研究所固体辐射物理研究室 助理研究员
2005年9月-2012年6月:兰州大学物理科学与技术学院 微电子学与固体电子学 博士
2001年9月-2005年6月:兰州大学物理科学与技术学院 微电子学 学士
主要研究领域及成就:
目前研究方向为电子器件辐射效应研究,主要基于计算机仿真技术开展器件辐射损伤机制的基础性研究。今年来发表论文20余篇,主持国家及省部级科研项目4项。
主要荣誉:
获得2018年新疆维吾尔自治区科技进步一等奖(第8完成人)
获得2021年新疆维吾尔自治区科技进步一等奖(第5完成人)
代表性文章:
1. 魏莹,崔江维,崔旭,郑齐文,李小龙,孙静,郭旗,吕小龙.总剂量辐射效应对体硅n-finfet 1/f噪声特性的影响[j].,航天微电子, 2021, (2):74-80.
2. 魏莹,文林,李豫东,郭旗.电离总剂量效应对4t cmos图像传感器暗电流影响的数值仿真[j].数值计算与计算机应用,2020,41(02):143-150.
3. ying. wei et al., "total ionizing dose effects on time-dependent dielectric breakdown in pmos capacitance based on 65nm process," 2018 international conference on radiation effects of electronic devices (icreed), 2018, pp. 1-3.
4. 魏莹,崔江维,郑齐文,马腾,孙静,文林,余学峰,郭旗.辐射陷阱电荷对0.18μm n-mosfet转移特性影响的tcad仿真[j].现代应用物理,2017,8(04):47-51.
5. 王保顺,崔江维,郑齐文,席善学,魏莹,雷琪琪,郭旗. 22 nm体硅finfet热载流子及总剂量效应研究[j].固体电子学研究与进展,2020,40(05):384-388.
6. 冯皓楠,杨圣,梁晓雯,张丹,蒲晓娟,孙静,魏莹,崔江维,李豫东,余学峰,郭旗.碳化硅vdmos的静态和动态辐射损伤及其比较[j].原子能科学技术,2022,56(04):767-774.
7. 席善学,郑齐文,崔江维,魏莹,姚帅,何承发,郭旗,陆妩.超深亚微米soi总剂量效应泄漏电流模型[j].太赫兹科学与电子信息学报,2019,17(06):1107-1111.
8. 郑齐文,崔江维,魏莹,余学峰,陆妩,任迪远,郭旗. bias dependence of radiation-induced narrow-width channel effects in 65 nm nmosfets[j]. chinese physics letters,2018,35(04):82-85.
代表性专利:
1. 魏莹; 崔江维; 郑齐文; 崔旭; 郭旗; 余学峰; 一种多栅鳍式场效应晶体管电离总剂量效应的仿真分析方法, 2021-11-25, 中国, 202111409788.8;
2. 郑齐文; 崔江维; 李小龙; 魏莹; 余学峰; 李豫东; 郭旗; 一种电路级总剂量辐射效应仿真方法, 2020-10-20, 中国, cn202011125626.7;
3. 郑齐文; 崔江维; 李小龙; 魏莹; 余学峰; 李豫东; 郭旗; 一种总剂量效应与工艺波动耦合的电路仿真方法, 2020-10-20, 中国, cn202011125363.x;
4. 崔江维; 郑齐文; 魏莹; 孙静; 余学峰; 郭旗; 陆妩; 何承发; 任迪远; 一种总剂量辐照对pmosfet负偏压温度不稳定性影响的试验方法, 2017-12-13, 中国, zl201711329107.0。
研究领域:
电子器件辐射效应仿真研究
研究领域: