副研究员-凯发k8官网登录vip

姓 名: 魏莹
性 别:
职 务:
职 称: 副研究员
通讯地址: 乌鲁木齐市北京南路40号附1号
邮政编码: 830011
电子邮件: weiying@ms.xjb.ac.cn

简历:

202010月-至今:中国科学院新疆理化技术研究所 固体辐射物理研究室 副研究员 硕士生导师 

2012年7月-202010月:中国科学院新疆理化技术研究所固体辐射物理研究室 助理研究员 

2005年9月-2012年6月:兰州大学物理科学与技术学院 微电子学与固体电子学 博士 

2001年9月-2005年6月:兰州大学物理科学与技术学院 微电子学 学士 

主要研究领域及成就: 

  目前研究方向为电子器件辐射效应研究,主要基于计算机仿真技术开展器件辐射损伤机制的基础性研究。今年来发表论文20余篇,主持国家及省部级科研项目4项。 

主要荣誉: 

获得2018年新疆维吾尔自治区科技进步一等第8完成人 

获得2021新疆维吾尔自治区科技进步一等5完成人 

代表性文章:

1. 魏莹,崔江维,崔旭,郑齐文,李小龙,孙静,郭旗,吕小龙.总剂量辐射效应对体硅n-finfet 1/f噪声特性的影响[j].,航天微电子, 2021, (2):74-80. 

2. 魏莹,文林,李豫东,郭旗.电离总剂量效应对4t cmos图像传感器暗电流影响的数值仿真[j].数值计算与计算机应用,2020,41(02):143-150. 

3. ying. wei et al., "total ionizing dose effects on time-dependent dielectric breakdown in pmos capacitance based on 65nm process," 2018 international conference on radiation effects of electronic devices (icreed), 2018, pp. 1-3. 

4. 魏莹,崔江维,郑齐文,马腾,孙静,文林,余学峰,郭旗.辐射陷阱电荷对0.18μm n-mosfet转移特性影响的tcad仿真[j].现代应用物理,2017,8(04):47-51. 

5. 王保顺,崔江维,郑齐文,席善学,魏莹,雷琪琪,郭旗. 22 nm体硅finfet热载流子及总剂量效应研究[j].固体电子学研究与进展,2020,40(05):384-388. 

6. 冯皓楠,杨圣,梁晓雯,张丹,蒲晓娟,孙静,魏莹,崔江维,李豫东,余学峰,郭旗.碳化硅vdmos的静态和动态辐射损伤及其比较[j].原子能科学技术,2022,56(04):767-774. 

7. 席善学,郑齐文,崔江维,魏莹,姚帅,何承发,郭旗,陆妩.超深亚微米soi总剂量效应泄漏电流模型[j].太赫兹科学与电子信息学报,2019,17(06):1107-1111. 

8. 郑齐文,崔江维,魏莹,余学峰,陆妩,任迪远,郭旗. bias dependence of radiation-induced narrow-width channel effects in 65 nm nmosfets[j]. chinese physics letters,2018,35(04):82-85. 

代表性专利:

1. 魏莹; 崔江维; 郑齐文; 崔旭; 郭旗; 余学峰; 一种多栅鳍式场效应晶体管电离总剂量效应的仿真分析方法, 2021-11-25, 中国, 202111409788.8; 

2. 郑齐文; 崔江维; 李小龙; 魏莹; 余学峰; 李豫东; 郭旗; 一种电路级总剂量辐射效应仿真方法, 2020-10-20, 中国, cn202011125626.7; 

3. 郑齐文; 崔江维; 李小龙;  魏莹; 余学峰; 李豫东; 郭旗; 一种总剂量效应与工艺波动耦合的电路仿真方法, 2020-10-20, 中国, cn202011125363.x; 

4. 崔江维; 郑齐文;  魏莹; 孙静; 余学峰; 郭旗; 陆妩; 何承发; 任迪远; 一种总剂量辐照对pmosfet负偏压温度不稳定性影响的试验方法, 2017-12-13, 中国, zl201711329107.0。 

研究领域: 

电子器件辐射效应仿真研究 

研究领域:

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